Nederländska halvledarjätten ASML uppger att bolaget har hittat ett sätt att höja effekten i ljuskällan i sina EUV-maskiner från 600 till 1 000 watt. Det framgår av en intervju med teknikchefen Michael Purvis, rapporterar Reuters.

Genombrottet kan öka chipproduktionen med upp till 50 procent före decenniets slut och höja kapaciteten till omkring 330 kiselskivor i timmen från 220 i dag. Den högre effekten ska samtidigt stärka bolagets försprång mot amerikanska och kinesiska konkurrenter, heter det.

EUV-maskinerna är avgörande för avancerad chipproduktion och omfattas av exportrestriktioner till Kina, vilket har sporrat landet att utveckla egen teknik. Den nya lösningen bygger på fler tennpartiklar och en förändrad lasermetod för att skapa plasma, skriver Reuters.

Rikard Jansson
rikard.jansson@finwire.com
Nyhetsbyrån Finwire, @Finwire